關鍵字:EUV微影設備 半導體制造設備 EUV微影系統(tǒng) 電子制作模塊
EUV微影技術雖然已經(jīng)用了幾十年了,由于存在光源不足的缺陷,至今仍無法提供制造先進芯片所需的良率與產(chǎn)能。ASML長久以來已經(jīng)在這方面發(fā)布了幾次重要的系統(tǒng)升級,但最近的進展仍遠低于生產(chǎn)目標。
就在去年秋天的英特爾開發(fā)者論壇(IDF)上,英特爾院士Mark Bohr表示,EUV“尚未準備就緒,其產(chǎn)能與可靠性都還未能到位。”
Mark Bohr當時表示,英特爾正著眼于一種無需使用EUV的方法,能夠在更具成本效益的前提下制造7nm芯片。他稍早前即針對10nm工藝發(fā)表相同的看法,不過,該公司尚未對于7nm與10nm工藝節(jié)點透露更多細節(jié)。
有的分析師認為英特爾就是ASML新聞發(fā)布中所提到的美國現(xiàn)有客戶。不過,根據(jù)另一位分析師推測,這會是一項長期的交易,因為在15臺EUV系統(tǒng)中有10臺要到2017年以后才能出貨。根據(jù)分析師指出,這項交易已經(jīng)讓ASML的股價上漲15%了。
其他分析師也采取更樂觀的看法。“對于英特爾來說,要在10nm節(jié)點利用EUV為時已晚,目前的時機似乎更適合用于7nm,”Real World Technologies首席分析師Daid Kanter表示。
“這是對于ASML投下信心的一票,從這項訂單的規(guī)模可看出,EUV即將進入大量生產(chǎn);以往的交易通常只買一兩臺機器,主要用于實驗目的,”Kanter說,“而英特爾購買EUV可望促進其他競爭對手如三星(Samsung)、Globalfoundries與臺積電(TSMC)在不久的將來盡快進行系統(tǒng)升級,”他補充說。
然而,Kanter提醒,實際的銷售交易仍然取決于EUV是否能符合性能目標。此外,他并補充說,EUV系統(tǒng)能否達到內(nèi)存制造商更嚴峻的成本目標,一切也還是個未知數(shù)。
今年稍早,臺積電宣布采用配備80W光源的ASML NXE:3300B EUV微影系統(tǒng),在24小時內(nèi)曝光1,000片晶圓。該公司預計在7nm工藝節(jié)點時使用EUV,但在10nm生產(chǎn)開始后也將嘗試導入于其10nm工藝中。這項新的EUV交易顯示英特爾可能也打算采取類似的計劃。
無疑地,EUV是業(yè)界主要的候選技術,它能夠避免當今193nm浸潤式微影系統(tǒng)利用多種圖形化步驟帶來的高成本。然而,除了與光源有關的問題以外,EUV仍然面臨光阻劑、光罩偵測、密度與防護膜等障礙。