顯然可見(jiàn)中國(guó)對(duì)半導(dǎo)體制造業(yè)的投資力道未見(jiàn)停歇，對(duì)ASML而言，中國(guó)的影響力越來(lái)越大，同樣的中國(guó)對(duì)其他半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)及相關(guān)材料廠商也是如此，未來(lái)可預(yù)見(jiàn)中國(guó)的半導(dǎo)體供應(yīng)鏈越趨完整。電子制作模塊
EUV終于進(jìn)入量產(chǎn)階段，部分尖端芯片制造商計(jì)劃在2018年或最遲2019年初采用。ASML總裁兼執(zhí)行長(zhǎng)Peter Wennink在2017年表示，“EUV進(jìn)入大量芯片制造的準(zhǔn)備工作將進(jìn)一步加快”。
ASML 2017年?duì)I收達(dá)到13.4億美元，并在第四季額外接單10臺(tái)EUV系統(tǒng)，目前ASML手中累積未出貨的EUV設(shè)備訂單高達(dá)28臺(tái)。
ASML指出，隨著該公司持續(xù)支持中國(guó)不斷擴(kuò)展的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，2016年半導(dǎo)體制造設(shè)備對(duì)中國(guó)的銷(xiāo)售額增加了20%以上，除了出貨在中國(guó)營(yíng)運(yùn)的外資晶圓廠，ASML還計(jì)劃于2018年向5家中國(guó)本土客戶(hù)供貨。
EUV營(yíng)收占比創(chuàng)新高，ArF-immersion仍是黃光設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模最大宗產(chǎn)品
晶圓制造導(dǎo)入EUV的消息延宕多時(shí)，由于先進(jìn)制程僅采用浸潤(rùn)式曝光機(jī)(ArF-immersion)進(jìn)行黃光制程難以繼續(xù)為廠商帶來(lái)成本效益，半導(dǎo)體廠商不得不致力于將EUV的導(dǎo)入成為現(xiàn)實(shí)，也因此EUV對(duì)ASML的營(yíng)收占比上升是可預(yù)期的結(jié)果，先進(jìn)制程導(dǎo)入EUV。
雖然減少前段晶體管制程key-layer的光罩?jǐn)?shù)目，將大幅減少ArF-immersion在Key-layer的使用，但晶體管微縮使得金屬導(dǎo)線線寬也進(jìn)一步微縮，基于成本考量廠商仍會(huì)采用ArF-immersion進(jìn)行部分金屬導(dǎo)線制程，加上存儲(chǔ)器廠商的產(chǎn)能持續(xù)擴(kuò)增，ArF-immersion仍是受廠商仰賴(lài)的黃光設(shè)備。
中國(guó)對(duì)設(shè)備廠商的影響力上升
ASML于中國(guó)當(dāng)?shù)氐臓I(yíng)收及積壓待配訂貨統(tǒng)計(jì)，source：拓墣產(chǎn)業(yè)研究院
如圖所示，ASML出貨于中國(guó)當(dāng)?shù)氐狞S光設(shè)備營(yíng)收貢獻(xiàn)逐年提升，2017年已達(dá)7.2億美元，占ASML總營(yíng)收11.3%，雖然相對(duì)臺(tái)灣、韓國(guó)及美國(guó)占比仍小，但已是5年前的2.1倍，成長(zhǎng)不可謂不大，加上中國(guó)當(dāng)?shù)氐姆e壓待配訂貨(Backlog)也創(chuàng)下新高達(dá)到8億美元。
顯然可見(jiàn)中國(guó)對(duì)半導(dǎo)體制造業(yè)的投資力道未見(jiàn)停歇，對(duì)ASML而言，中國(guó)的影響力越來(lái)越大，同樣的中國(guó)對(duì)其他半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)及相關(guān)材料廠商也是如此，未來(lái)可預(yù)見(jiàn)中國(guó)的半導(dǎo)體供應(yīng)鏈越趨完整。
